Photovoltaics Equipment

Model SALD — 平面 ALD Atomic Layer DepositionEquipment

Model SALD 是纳狮推出的平面Atomic Layer Deposition（ALD）镀膜Equipment，仅支持平面基材，主要用于钙钛矿、氧化铝等氧化膜的精准沉积。

ALD Technology基于自限制表面化学反应，可在平面基材上实现原子级厚度控制、Excellent均匀性与Dense性，是Photovoltaics与光电功能薄膜制备的关键Equipment。

Model SALD 面向钙钛矿太阳能Batteries、氧化铝钝化膜、光学功能膜等应用，提供高质量氧化膜沉积方案。

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