Photovoltaics Equipment
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Model SALD — 平面 ALD 原子层沉积设备
Model SALD 是纳狮推出的平面原子层沉积（ALD）镀膜设备，仅支持平面基材，主要用于钙钛矿、氧化铝等氧化膜的精准沉积。
ALD 技术基于自限制表面化学反应，可在平面基材上实现原子级厚度控制、优异均匀性与致密性，是光伏与光电功能薄膜制备的关键设备。
Model SALD 面向钙钛矿太阳能电池、氧化铝钝化膜、光学功能膜等应用，提供高质量氧化膜沉积方案。
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核心优势
原子级厚度控制
基于自限制表面反应，实现纳米级精确膜厚与优异均匀性。
高致密氧化膜
制备的氧化铝、钙钛矿等氧化膜致密、无针孔，性能优异。
平面基材适用
专为平面基材设计，适用于玻璃、晶圆、薄膜等多种载体。
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