Model SALD

Model SALD 是纳狮推出的平面原子层沉积（ALD）镀膜设备，仅支持平面基材，主要用于钙钛矿、氧化铝等氧化膜的精准沉积。

ALD 技术基于自限制表面化学反应，通过前驱体的交替脉冲在平面基材表面逐层生长薄膜，实现原子级厚度控制与优异的均匀性、致密性。

面向钙钛矿太阳能电池、氧化铝钝化膜、光学功能膜等应用，提供高质量氧化膜沉积方案，是光伏与光电功能薄膜制备的关键设备。