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纳狮掌握电弧蒸发、磁控溅射、HiPIMS、ALD 原子层沉积、卷绕镀膜等核心真空镀膜技术，自主构建了 H2 等离子体与 SPARK 平台两大技术体系。

自主专利的 JVAD 快速镀膜、H2 等离子增强等核心技术，为 DLC、氮化物、碳化物、氧化物及多彩装饰涂层提供坚实支撑。

持续投入新工艺研发，覆盖复合集流体、固态电池、钙钛矿等前沿应用领域，保持技术领先。

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