Introduction
在技术架构上,L1000 创新性地采用了三腔室立式连续线设计。中间腔体作为核心镀膜区,两侧配置产品架往复移动腔体,形成高效、封闭的连续生产闭环。
产品采用立式上挂方式,底部固定工装夹具,有效避免了涂层崩落与表面灰尘堆积等缺陷。这一架构不仅突破了传统 PVD 溅射在均匀性和附着力上的技术壁垒,更以低温、高速、高离化率的综合性能,全面赋能 DPC 陶瓷基板的高质量量产。
在技术架构上,L1000 创新性地采用了三腔室立式连续线设计。中间腔体作为核心镀膜区,两侧配置产品架往复移动腔体,形成高效、封闭的连续生产闭环。
产品采用立式上挂方式,底部固定工装夹具,有效避免了涂层崩落与表面灰尘堆积等缺陷。这一架构不仅突破了传统 PVD 溅射在均匀性和附着力上的技术壁垒,更以低温、高速、高离化率的综合性能,全面赋能 DPC 陶瓷基板的高质量量产。
突破产能瓶颈,满足高密度集成器件的高效量产需求。
强化膜层性能,提升涂层质量与结合力。
表面质量零缺陷,低温工艺保护敏感基材。
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