Model Q

Model Q 是面向工业量产、专为 PVD 替代传统电镀铬、铜、锌开发的磁控溅射真空镀膜设备,是一套成熟、环保且经济可行的电镀替代方案。

纳狮专利的 JVAD 技术可实现 1µm/min 高效率、"无液滴"的快速镀膜,镀层在耐磨、耐腐蚀、综合成本三个维度均优于传统电镀,达到商业化量产要求。

设备搭载高性能 HSS 快速镀膜阴极与自研 H2 等离子增强技术,兼顾高离化率、高膜层结合力与量产稳定性,可直接用于五金、结构件、功能件的功能性金属镀层量产替代。

Introduction

Model Q 通过 PVD 真空镀膜技术替代传统电镀铬、铜、锌工艺,从源头解决电镀废水、重金属污染、镀层针孔、氢脆与厚度不均等行业痛点。

依托纳狮 JVAD 专利技术与 H2 等离子增强技术,Model Q 在沉积效率上对标电镀,在涂层性能与环保合规上全面领先,为机械、电子、建材五金等行业提供绿色量产替代方案。

核心优势

涂层致密,耐蚀性对标电镀

涂层致密,耐腐蚀性与电镀相当,耐磨性比电镀提升 30%,满足防腐、导电、耐磨等电镀等效性能。

卓越环保与安全

真空镀膜无环境污染,生产过程无有毒物质(无六价铬、无镍、无溶剂),从源头解决电镀的环境与健康风险。

出色涂层性能

铝合金基材 DX-2 耐磨性比阳极氧化提升 16 倍、盐雾测试提升 2 倍;无镍致敏风险,涂层结合力优异。

Correlation Applications

电镀替代应用

Correlation Technology

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