电弧阴极
DLC涂层
电弧离子镀
- 线性电弧阴极
- 圆弧阴极
电弧阴极是DLC和PVD电弧离子镀系统的关键部件。通过优化设计，能够提高并最大限度地提高目标利用率和生产能力。纳狮执行模拟磁场、设计等，以便为客户提供优化的解决方案。
离子源
预处理
辅助
数据链路控制
- 线性离子源
离子源是等离子体清洗过程中的关键部件，它可以加速离子到达基底，从而产生物理/化学反应，激活基底表面以提高附着力。
纳狮通过自己的设计提供表面预处理所需的定制解决方案。
射频等离子体源
PECVD
PVD
蚀刻
清洁和激活
PALD–辅助
- 圆形光源
- 线性源
- 环形源
- 内置源
电弧阴极是DLC和PVD电弧离子镀系统的关键部件。通过优化设计，能够提高并最大限度地提高目标利用率和生产能力。纳狮执行模拟磁场、设计等，以便为客户提供优化的解决方案。