纳狮真空镀膜设备-Naxau IE纳米涂层加工

PVD镀膜技术

先进的阴极系统

先进的等离子体阴极可以有效地减少涂层液滴,满足大多数单层、多层、复合层涂层的生产。

Advanced-cathode-system

双刻蚀系统

IET刻蚀系统​

侧面IET蚀刻系统确保蚀刻速率均匀,在实验室条件下保持蚀刻速率为0.25um/h。

MET刻蚀系统

MET蚀刻对于保持硬涂层和基底之间的良好结合力非常重要。

 

复合涂层的优点

复合机的优势

  • 高沉积率
  • 经济型最佳配置
  • 沉积多组分涂层
  • 沉积多结构涂层