CVD化学真空镀膜加工

Naxau CVD涂层服务

纳狮CVD化学真空气相沉积涂层服务主要以高硬切削刀具、抗粘黏/冲压成型等模具类为主。Naxau CVD可沉积5微米至20微米厚的涂层，采用TiN，TiCN和α-氧化铝（Al2O3）形成单层或多层膜。CVD沉积工艺通常在900℃以上，10小时镀膜时间，仅针对于耐高温基材。

纳狮CVD 涂层的典型的工艺温度为为900到1050 °C，因此仅限于高温合金材料，如硬质合金，工具钢，高温合金，陶瓷和石墨等。钢工具基材需要在做完CVD涂层后做热处理，以达到所需的硬度。

工艺特点	PVD Physical Vapor Deposition	CVD Chemical Vapor Deposition
真空度	10-2 to 10-4 mbar	常压或低真空
温度	200-450℃	900-1050℃
沉积限制	视线法则	气体能接触到的任何表面
镀膜工艺	物理气相沉积	化学气相沉积
膜厚	1-7 μm, 或纳狮定制	5-12 μm, 最大20μm;
基材限制	非真空挥发性	长时间耐高温
表面光洁度	0.03-0.05μm	需抛光处理
后处理	无需热处理	工具钢需后处理调制硬度
边缘构造	无堆边现象	厚膜，可打磨边缘

CVD仅限于耐高温材料，和PVD镀膜一样，为保证涂层的结合力，基材表面光洁无油、无锈。

由于CVD在900℃以上镀膜且为化学气相沉积，因此工件遮蔽更加困难。可以通过定制石墨夹具，实现部分遮蔽。

由于在气态环境中镀膜沉积，无法精细遮蔽。