Introduction
Model H 基于纳狮 H2 技术平台,通过电弧蒸发与磁控溅射的智能结合,实现涂层极致光滑、致密、高硬度(40 GPa)与优异结合力,无需机械后处理即可使用。
广阔的工艺窗口与量身定制的涂层设计,使 Model H 能够根据具体应用精确优化硬度、光滑度和摩擦特性,批次处理量相比市场同类系统可提升高达 25%,显著降低单件成本。
Model H 基于纳狮 H2 技术平台,通过电弧蒸发与磁控溅射的智能结合,实现涂层极致光滑、致密、高硬度(40 GPa)与优异结合力,无需机械后处理即可使用。
广阔的工艺窗口与量身定制的涂层设计,使 Model H 能够根据具体应用精确优化硬度、光滑度和摩擦特性,批次处理量相比市场同类系统可提升高达 25%,显著降低单件成本。
涂层无液滴、无缺陷,极致光滑;高密度、高硬度(40 GPa)与优异结合力,相比标准 DLC(20-30 GPa)优势显著。
广阔的工艺窗口与量身定制的涂层设计,精确优化硬度、光滑度和摩擦特性。
批次处理量相比市场同类系统提升高达 25%,更高沉积速率、更低单件成本。
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